クオルテックが新しい研究拠点を開設、環境に優しいめっき技術を開発へ

研究開発拠点の開所

2025年9月2日、株式会社クオルテックが立命館大学びわこ・くさつキャンパス内に新しい研究開発拠点を開設しました。この拠点は「MAPプロジェクト」の一環として、高橋勲客員教授との共同研究を行うことを目的としています。開所式には、クオルテックの代表である山口友宏社長や新規事業開発室の森本孝貴氏、また立命館大学の高橋教授が出席し、プロジェクトのスタートを祝いました。

MAPプロジェクトの概要

MAPとは、Minist-Assisted universal Platingの略で、独自に開発したミストめっき法により、従来の技術では難しかった絶縁体上への金属膜の成膜を目指すプロジェクトです。この技術は、大量の廃液処理を解決するだけでなく、めっきに使用する水の量を削減することができます。環境に配慮した新たなめっき技術の確立を目指し、持続可能な未来に貢献するプロジェクトです。

研究内容の詳細

クオルテックでは、銅、ニッケル、クロムといった一般的な金属をガラスや樹脂、セラミックなどの絶縁体上に成膜し、それらの膜特性や密着性を評価します。また、高価な貴金属を安価な素材で代替するため、貴金属をコーティングした製品の開発にも着手します。これにより、貴金属の使用量を10分の1以下に抑えることが可能になるとされています。